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    激光鐳雕機煙塵異味粉塵除塵除味凈化設備

    激光鐳雕機煙塵異味粉塵除塵除味凈化設備

    簡要描述:激光鐳雕機煙塵異味粉塵除塵除味凈化設備 由吸塵管道、高效過濾器、活性炭過濾器、吸塵風機及觸摸式微電腦控制器等組成的一個完整的空氣凈化系統(tǒng)。廣泛應用于機械、五金、電子電器、光電、化工、煙草、制藥、食品、生物等行業(yè)及其它有煙霧、煙塵、粉塵污染的場所。霧凈化器。

    產(chǎn)品型號:

    所屬分類:激光

    更新時間:2024-10-08

    廠商性質:生產(chǎn)廠家

    詳情介紹

    激光鐳雕機煙塵異味粉塵除塵除味凈化設備

    深圳市蔚南科技有限公司

     

     

     蔚南科技有限公司屬于工貿(mào)一體,有自己專業(yè)的生產(chǎn)車間和職業(yè)+專業(yè)的銷售團隊,憑借自身鉆研的技術、先進的生產(chǎn)工藝、嚴謹?shù)膶Υ】档膽B(tài)度和不斷與時俱進的創(chuàng)新理念,成功開發(fā)了一系列的煙塵過濾系統(tǒng),粉塵回收系統(tǒng),金屬粉末收集系統(tǒng),異味消除系統(tǒng),有毒有害氣體凈化系統(tǒng)等,獲得了各界的認可與支持,我們的產(chǎn)品憑借性能穩(wěn)定、吸力大、噪音小、操作方便、使用成本低、凈化效率高、節(jié)能省電、無需外排等特點,深受國內(nèi)外用戶的青睞。

     蔚南憑借自身鉆研的技術、先進的生產(chǎn)工藝、嚴謹?shù)膶Υ】档膽B(tài)度和不斷與時俱進的創(chuàng)新理念,成功開發(fā)了一系列的煙塵過濾系統(tǒng),粉塵回收系統(tǒng),金屬粉末收集系統(tǒng),異味消除系統(tǒng),有毒有害氣體凈化系統(tǒng)等,該系列產(chǎn)品憑借性能穩(wěn)定、吸力大、噪音小、操作方便、使用成本低、凈化效率高、節(jié)能省電、無需外排等特點,深受國內(nèi)外用戶的青睞。

    在如今的先進工業(yè)制造中,激光應用越來越廣泛,如激光焊接/錫焊、切割、打標、雕刻、清潔等,但人們對激光加工過程中產(chǎn)生的煙霧的危害性了解和重視還遠遠不夠,下面我們列舉不同的激光加工工藝中產(chǎn)生的一些副產(chǎn)物,僅供參考。希望廣大的激光設備操作者、EHS部門及管理部門、激光設備制造商等引起足夠的重視并采取有效的、持續(xù)的防護措施或建議。

    1.1 金屬加工

    在加工金屬時會產(chǎn)生重金屬蒸氣。這些蒸氣能傷害人體組織。從醫(yī)學觀察點來看,至少下列金屬及其化合物是有影響的:錳Mn,鉻Cr,鎳Ni,鈷Co,鋁Al,鋅Zn,銅Cu,鈹Be,鉛Pb,銻Sb。醫(yī)學方面的影響包括:
    有毒 (Cr+6,Mn),
    過敏反應(Zn,Cu),
    肺纖維化(Be),
    致癌 (Cr+6,NiO),等等。
    1.2 塑料切割
    在切割塑料時可能會產(chǎn)生各種各樣具有潛在危險的物質。溫度比較低時產(chǎn)生脂肪族烴,而溫度較高時則會使芳香族烴(像苯,PAH)和多鹵多環(huán)類烴(例如二氧芑,呋喃)增加。其中某些物質可能產(chǎn)生異氰酸鹽(PU),丙烯酸鹽(PMMA),和氧化氫(PVC)。醫(yī)學方面的影響包括:
    有毒:CO,苯的衍生物;
    過敏源/刺激物:異氰酸鹽,丙烯酸鹽;
    呼吸道刺激:甲苯、胺類;
    致癌:苯,某些PAH物質。
    1.3 陶瓷加工
    三氧化二鋁Al2O3,鎂Mg,鈣Ca與硅Si的氧化物;氧化鈹BeO(劇毒)。
    1.4 硅片加工
    浮在空氣中的硅Si及氧化硅的碎屑(可能吸進肺葉,能引起矽肺?。?。
    1.5 切割紙和木材
    一般的纖維素副產(chǎn)物,酯類,酸類、乙醇,苯等。

     

     

     

    產(chǎn)品特點

    ★ 外觀剛硬有型,全金屬框架結構,能抵抗強力沖撞與振動;機身輕巧,便于移動。

    ★ 安裝簡單方便,有利于工作空間的整潔和美觀。

    ★凈化原理:

    ◆化學式: 利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射有機氣體及空氣中的氧分子,裂解有機氣體的分子鍵,并分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物,如CO2、H2O等。從而達到凈化氣體的效果。

    UV光氧凈化器反應工程式:

    1、UV + 高分子有機物→低分子有機物

    2、UV + 空氣( O2) →O3

    3、低分子有機物+ O3→ CO2+ H2O +N2

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